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J-GLOBAL ID:201002250460321408   整理番号:10A0728573

プラズマ曝露下のTiO2上の原子吸着の証拠及び関連するC2H2表面反応性

Evidence of atomic adsorption on TiO2 under plasma exposure and related C2H2 surface reactivity
著者 (4件):
資料名:
巻: 97  号:ページ: 011502  発行年: 2010年07月05日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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プラズマ処理したSiO2及びTiO2結晶表面上のC2H2の吸着/反応動力学を調べた。Ar,O2,N2,又は空気中の直流放電により触媒を前処理した。次に,空気中950ppmのC2H2を密封体積反応器に導入した。O2や空気プラズマで前処理したTiO2は,紫外線活性化無しに気相からのC2H2除去を触媒することが分かった。導入後10分間の反応器全体のC2H2損失は約5×1015分子であった。種々の前処理手順を比較し,プラズマ曝露から長時間後にTiO2上に弱結合酸素原子が残る可能性を示した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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プラズマ応用 
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