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J-GLOBAL ID：201002250519563354   整理番号：10A0777985

種々のイオンビーム電圧を用いたイオンビームスパッタリングにより蒸着されたフッ化マグネシウム薄膜の光学特性

Optical Properties of Magnesium Fluoride Thin Films Deposited by Ion-Beam Sputtering with Various Ion-Beam Voltage

著者 (6件)： HSU Jin-Cherng (Fu-Jen Catholic Univ., Taipei, TWN) ,  CHEN Jiun-Chao (Fu-Jen Catholic Univ., Taipei, TWN) ,  LIN Yung-Hsin (Fu-Jen Catholic Univ., Taipei, TWN) ,  CHEN Huang-Lu (Fu-Jen Catholic Univ., Taipei, TWN) ,  YAO Yeong-Der (Fu-Jen Catholic Univ., Taipei, TWN) ,  LIU Hsiang-Lin (National Taiwan Normal Univ., Taipei, TWN)
資料名： Technical Digest of International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication  (Technical Digest of International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication)
巻： 7th  ページ： 363-364  発行年： 2010年 
JST資料番号： L4372A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *イオンビームスパッタリング ,  *スペクトル ,  フッ化マグネシウム ,  *屈折率 ,  光学的性質 ,  *薄膜成長
準シソーラス用語： 光学特性 ,  *透過スペクトル

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンビーム ,  イオンビームスパッタリング ,  蒸着 ,  フッ化マグネシウム ,  薄膜 ,  光学特性