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J-GLOBAL ID:201002250716777846   整理番号:10A0435442

側鎖樹枝状ポリエステル薄膜上の光可逆性ナノスケール表面レリーフ格子パターンの原子間力顕微鏡による研究

Atomic force microscopy study of photoreversible nanoscale surface relief grating patterns on side chain dendritic polyester thin films
著者 (4件):
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巻: 360  号: 1-3  ページ: 167-174  発行年: 2010年05月05日 
JST資料番号: A0539B  ISSN: 0927-7757  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高分解能原子間力顕微鏡(AFM)を用いて側鎖樹枝状ポリエステル(SCDPE)高分子薄膜の光可逆性挙動と光可逆性ナノスケール表面レリーフ格子パターンを調べた。これら低分子量(<1400g/mol)SCDPEを,特異な第一,第二及び第三世代樹枝状くさび形ジオールを有するジアシルクロリドアゾベンゼンの化学量論付加によって合成した。これを加えて付加的な自由体積を導入しアゾベンゼン部分のtrans-cis-trans異性を最適化した。この高分子試料を石英スライド上にスピンコートして特定の厚さの均一な薄膜を得た。次いでこれら試料を,AFMを用いて膜のトポグラフィーを描く前にフォトマスクを通して紫外線(365nm,100mW/cm<sup>2</sup>)照射した。AFM像は明らかに第二及び第三世代高分子膜ともナノスケール表面レリーフ格子パターンを示したが,第一世代重合体には凝集の可能性により応答は認められなかった。AFM結果はそれぞれの膜について行った紫外分光測定と矛盾はない。更に,第二及び第三世代の膜は可視光に曝露すると光可逆性であることが分かった。従って,これら光異性化表面レリーフ格子は高エネルギーレーザ又は別の加熱エレメントを必要とせず,非偏光紫外及び可視光照射によって容易にパターン化し,また消去できることが確かめられた。膜の光有効性はデンドリマの世代と膜厚の増加と共に増大した。ナノ格子は最初の曝露後少なくとも6か月の間無傷であった。これらの知見によりフォトニクス及び光学の応用での使用のための可逆的生成ナノ格子を開発するための有望な簡単で費用効率の高い系が示された。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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高分子固体の物理的性質  ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  ,  光化学反応 
物質索引 (1件):
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