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J-GLOBAL ID:201002251538032528   整理番号:10A0164588

ZnOナノロッドとTiバッファ層の構造的性質と電気的性質

Structural and electrical properties of ZnO nanorods and Ti buffer layers
著者 (6件):
資料名:
巻: 96  号:ページ: 051908  発行年: 2010年02月01日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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有機金属化学気相蒸着プロセスにより,良好な垂直整列のZnOナノロッドをTiバッファ層上に合成した。構造解析からZnOナノロッドはc軸およびab面内で良好に整列していることが示された。透過電子顕微鏡(TEM)から,バッファ層は非晶質でZnOナノロッド内に相互拡散していた。エネルギー分散分光法(EDS)分析から,Tiバッファ層は僅かに酸化されていることを明らかにした。拡張X線吸収微細構造からTEMとEDSの結果を確認した。I-V特性測定から,Tiバッファ層を用いると20倍電流密度が増加しすることが示され,Tiバッファ層とZnOナノロッド間の優れた電気コンタクトが示唆された。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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