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J-GLOBAL ID:201002251876426620   整理番号:10A0466804

DDUレーザイオン源

The DCU laser ion source
著者 (3件):
資料名:
巻: 81  号:ページ: 043305  発行年: 2010年04月 
JST資料番号: D0517A  ISSN: 0034-6748  CODEN: RSINAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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レーザイオン源を用いて各種質量およびエネルギーの高電荷イオン発生し,配送する。DCUレーザイオン源(LIS)の設計および基本パラメータについて報告する。高電圧(HV)直線 LISの理論的観点について報告し,レーザープラズマ形成を取り巻く主な問題,イオン抽出および LISの動作に関連するビーム伝送のモデル化について詳細に述べる。レーザ電力密度範囲(I~108-1011 W cm-2)および Q-スイッチルビーレーザ(パルス半値幅~35 ns,λ=694 nm)からのフルエンス(F=0.1-3.9 kJ cm-2)を用いて銅プラズマを発生した。「基本動作モード」におけるレーザ発生プラズマイオンを直流 HVバイアス(5-18 kV)を用いて静電的に加速する。伝統的なアインツェルレンズシステムを利用して,Faradayカップを通して検出するために抽出したビームを運びまた平行化する。Cu+から Cu3+イオンに対しピーク電流を I~600 μA迄記録した。集めた最大の電荷は 94 pC(Cu2+)に達した。水力学シミュレーションおよびイオンプローブ測定を用いて抽出間隙内のプラズマプルームを研究した。このシステムで測定した性能および電気力学シミュレーションは,短い無場(L=48 mm)領域がドリフト管内部に注入したイオンビームの急激な拡張をまねくことを示した。このことが静電レンズシステムの効率を厳格に律則し,その結果イオン源の性能を律速する。「連続アインツェルアレイ」内におけるイオンビーム力学のシミュレーションを行い,ターゲット表面の近くでのプラズマ抽出から起こるイオンビーム中に存在する強い空間電荷に対抗することを実験的立証した。それ故イオンビームの加速と注入は「高圧力」において起こる。「エンハンス動作モード」でピーク電流 3.26 mA(Cu2+を記録した。より高く荷電したイオン(Cu4+-Cu6+)を集めた電流は,この動作モードでかなり増えた。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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電子源,イオン源 
タイトルに関連する用語 (1件):
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