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J-GLOBAL ID：201002252783251223   整理番号：10A0556125

マイクロ及びナノファイバペンを用いたサブミクロン線のレーザ直接描画

Laser direct writing of submicron lines using micro- and nanofiber pens

著者 (5件)： TIAN Feng (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  YANG Guoguang (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  BAI Jian (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  XU Jianfeng (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  ZHOU Qiaofen (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7591  ページ： 75910M.1-75910M.9  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直接描画技術は無マスクで表面にマイクロ及びナノ構造を定義でき,様々な素子の作製に利用されている。本論文では,マイクロ及びナノファイバペンを用いた新しい直接描画技術を示した。このペンは狭く閉込めた光源の役目をし,描画工程で微細接触モードを用いる。直接描画モデルのエネルギー分布を三次元有限差分時間領域法で解析した。この方法で100nmまでのパターンを描いた。本方法の長所は,単純,大きな描画面積,線幅が制御可能,複雑なパターンを描画できる,等である。

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  *ナノファイバ ,  レーザ応用 ,  レーザビーム ,  ナノ構造 ,  有限差分時間領域法 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： *レーザ直接描画

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： サブ ,  レーザ直接描画