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J-GLOBAL ID:201002253794843234   整理番号:10A1000796

第一原理による高密度SiH4(H2)2の~100K超伝導の予測

Superconductivity at ~100K in dense SiH4(H2)2 predicted by first principles
著者 (6件):
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巻: 107  号: 36  ページ: 15708-15711  発行年: 2010年09月07日 
JST資料番号: D0387A  ISSN: 0027-8424  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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水素高濃度物質の高温超伝導の可能性が動機となって,圧力範囲50~300GPaにおけるSiH4(H2)2の高圧構造物について,遺伝的アルゴリズムを用いて広く検討した。興味深い層状斜方晶(Ccca)構造が,零点エネルギーを含めて248GPa以上でエネルギー的に安定であることが明らかになった。Ccca構造は金属的であり,配向秩序化H2分子が層間挿入する水素共有SiH8八面体層から成った。Allen-Dynesによる修正McMillan方程式を適応すると,250GPaで98~107Kの非常に高い超伝導温度が生じた。これは,フォノン媒介超伝導体についてこれまでの最高値であった。解析から,H2とSiH4分子間の高圧での直接相互作用が高温超伝導に主要な役割を演じH2ビブロンからの寄与が小さい,独自な超伝導機構が明かになった。
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