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J-GLOBAL ID:201002254157231426   整理番号:10A0450079

波面符号化系における位相マスクの選択 設計法の検討

Phase mask selection in wavefront coding systems: A design approach
著者 (3件):
資料名:
巻: 48  号: 7-8  ページ: 779-785  発行年: 2010年07月 
JST資料番号: A0602B  ISSN: 0143-8166  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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波面符号化結像系のためのパラメトリック位相マスクの強度最適化法を紹介した。この方法は,提案した評価関数を最小にする最適化過程を基礎にしている。目標は,最終的な像の忠実性を定量的に維持する間における,変調伝達関数の不変性を実現することである。取得した像にある雑音に対処できるパラメトリックフィルターを,最終像を得るのに用い,このフィルターを最適化した。全過程が,最適な位相マスク強度と,回復のためのフィルターに対する最適パラメータをもたらす。特定の光学系に対する結果を紹介し,実験室において実験的に試験した。実験結果はシミュレーションとよい一致を示し,手順の有効性を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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光学情報処理 
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