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J-GLOBAL ID：201002254190200897   整理番号：10A0826288

Tougaard法と原子間力顕微鏡による高度配向熱分解グラファイト上に成長したNiOナノ構造の形態学の研究:比較研究

Study of the morphology of NiO nanostructures grown on highly ordered pyrolytic graphite, by the Tougaard method and atomic force microscopy: a comparative study

著者 (7件)： PREDA I. (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  SORIANO L. (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  ALVAREZ L. (CSIC, Madrid, ESP) ,  MENDEZ J. (CSIC, Madrid, ESP) ,  YUBERO F. (Universidad de Sevilla, Sevilla, ESP) ,  GUTIERREZ A. (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP) ,  SANZ J. M. (Universidad Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 42  号： 6/7  ページ： 869-873  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非弾性的ピーク形状分析と原子間力顕微鏡を用いて高度配向熱分解グラファイト(HOPG)上に成長したNiOナノ構造の形態を研究した。X線光電子スペクトルのNi 2p(9.21Å)及びNi LVV Auger(15.35Å)エネルギー領域のピークから初期段階では高さ約2-3nmのNiO島状沈着による表面の10%だけの被覆を示し,より進行すると約4nmの高さで約50%被覆していた。最終的には約10nmの島状沈着で80%被覆を示した。原子間力顕微鏡による観察で6段階の成長過程を示し,高さと側方サイズ,被覆率が得られた。NiO沈着物は核形成中心から小さい房を形成し,側方サイズは速く成長したが,高さはゆっくり増加した。グラファイトのステップはすぐに埋まったが,膜厚さが6nmに達すると癒合を形成した。

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  *高配向性熱分解グラファイト ,  *酸化ニッケル ,  ナノ構造 ,  X線光電子スペクトル ,  島状構造 ,  被覆率 ,  膜厚 ,  *薄膜成長 ,  表面構造

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： 原子間力顕微鏡 ,  高度 ,  配向 ,  熱分解 ,  グラファイト ,  成長 ,  ナノ構造 ,  形態学 ,  研究