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J-GLOBAL ID：201002254206812529   整理番号：10A0193398

高周波マグネトロン同時スパッタリングによるErをドープした誘電体膜

Er-doped dielectric films by radiofrequency magnetron co-sputtering

著者 (5件)： CATTARUZZA E. (Physical Chemistry Dep., Universita Ca’ Foscari Venezia, via Torino 155/b, I-30172 Venezia-Mestre, ITA) ,  BATTAGLIN G. (Physical Chemistry Dep., Universita Ca’ Foscari Venezia, via Torino 155/b, I-30172 Venezia-Mestre, ITA) ,  MUZIO M. (Physical Chemistry Dep., Universita Ca’ Foscari Venezia, via Torino 155/b, I-30172 Venezia-Mestre, ITA) ,  RIELLO P. (Physical Chemistry Dep., Universita Ca’ Foscari Venezia, via Torino 155/b, I-30172 Venezia-Mestre, ITA) ,  TRAVE E. (Physical Chemistry Dep., Universita Ca’ Foscari Venezia, via Torino 155/b, I-30172 Venezia-Mestre, ITA)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 12-13  ページ： 2023-2027  発行年： 2010年03月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Erドーピングされた誘電体膜は,λ=1.54μm(光通信用のガラス繊維で最も使用されている波長)で強い光ルミネセンス信号を発光するという特色を持つ材料である。高周波マグネトロンスパッタリング同時析出は,潜在的には,この材料を得るための優れた合成法である。シリカやアルミナなどの異なったマトリクス中のEr³⁺イオンの発光を比較した。Erをドーピングした析出膜は,すべて,合成の条件(特に,成長中の膜にエネルギーを提供する方法)とポスト合成焼鈍に強く依存する光ルミネセンス収率を示した。全ての場合に,Er:Al₂O₃の光ルミネセンス収率は,Er:SiO₂のものより大きかった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化エルビウム ,  *ドーピング ,  *アルミナ ,  マグネトロンスパッタリング ,  *反応性スパッタリング ,  酸素 ,  アルゴン ,  *誘電体薄膜 ,  発光 ,  *光ルミネセンス ,  基板 ,  *石英ガラス ,  焼なまし ,  セラミック膜 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  アニール ,  溶融シリカ

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波 ,  マグネトロン ,  同時スパッタリング ,  Er ,  ドープ ,  誘電体膜