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J-GLOBAL ID：201002254396619134   整理番号：10A0704067

Si基板上のペロブスカイト酸化物多層膜の酸素圧に依存した界面分極

Oxygen pressure dependent interfacial polarization of perovskite oxide multilayers on Si substrates

著者 (7件)： ZHANG Yingtang (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN) ,  ZHANG Yingtang (State Key Lab. of Electrical Insulation and Power Equipment, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, Shaanxi 710049, CHN) ,  ZHANG Yiming (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN) ,  FENG Xiaoming (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN) ,  YUAN Xinqiang (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN) ,  FU Lei (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN) ,  AI Taotao (School of Material Sci. & Engineering, Inst. of Functional Material, Shaanxi Univ. of Technol., Hanzhong 723003, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 23  ページ： 7285-7288  発行年： 2010年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コンピュータで制御した分子線エピタキシー(MBE)法を用いて1×10^-2Paおよび2×10^-4Paの酸素圧で,SrTi₃/La_0.9Sr_0.1MnO₃(STO/LSMO)多層膜をn-Si(100)基板上に作製し,多層膜の誘電特性を調べた。X線回折および高分解能TEMにより,多層膜の結晶性はよく,界面も滑らかであることを確認した。二つの試料の誘電特性の違いを複素インピーダンス解析法を用いて調べた結果,酸素圧と界面分極の間に密接な関係があることを見出した。この結果は,界面分極,引いては接合の電気特性を修飾するためには,適当な酸素圧下で成膜することの必要性を示している。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 基板 ,  ケイ素 ,  *多層膜 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  *MBE成長 ,  *チタン酸ストロンチウム ,  *マンガン化合物 ,  *酸素酸塩 ,  ストロンチウム化合物 ,  ランタン化合物 ,  *誘電率 ,  X線回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  インピーダンス ,  圧力 ,  *分極
準シソーラス用語： 誘電常数 ,  複素インピーダンス ,  酸素圧

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si基板 ,  ペロブスカイト ,  酸化物 ,  多層膜 ,  酸素圧 ,  界面分極