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J-GLOBAL ID：201002254624182639   整理番号：10A0992626

磁場印加配向法を利用したPDLCデフューザを用いたスペックルホログラム多重記録

著者 (3件)： 長谷川達也 (山梨大 大学院医学工学総合教育部) ,  HU Wenjun (山梨大 大学院医学工学総合教育部) ,  本間聡 (山梨大 大学院医学工学総合教育部)
資料名： 電子情報通信学会大会講演論文集  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集)
巻： 2010  号： エレクトロニクスソサイエティ2  ページ： 26  発行年： 2010年08月31日 
JST資料番号： G0508A  ISSN： 1349-1369  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁場印加配向法を利用してPDLCデフューザの液晶分子を配向させて,印加電圧に対する液晶滴の屈折率変化量を改善した。その結果,参照光に3つの位相コードを生成でき,従来のスペックル多重法と併用することにより3倍の記録密度が達成されることを示した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ホログラム ,  スペックル ,  液晶 ,  分子配向 ,  屈折率 ,  ディフューザ ,  *多重記録
準シソーラス用語： 配向【分子】

分類 (1件)： ホログラフィーの応用  (BD03074U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁場 ,  印加 ,  配向 ,  PDLC ,  デフューザ ,  多重記録