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J-GLOBAL ID：201002254651256741   整理番号：10A0928972

新規に合成したメチレン-ビフェニレン-架橋シルセスキオキサン薄膜の調整できる屈折率と強い分子間相互作用の観察

Observation of Tunable Refractive Indices and Strong Intermolecular Interactions in Newly Synthesized Methylene-biphenylene-Bridged Silsesquioxane Thin Films

著者 (4件)： CHOI Jin-Kyu (Chonnam National Univ., Gwangju, KOR) ,  LEE Duck-Hee (Chonnam National Univ., Gwangju, KOR) ,  RHEE Soon-Ki (Chonnam National Univ., Gwangju, KOR) ,  JEONG Hyun-Dam (Chonnam National Univ., Gwangju, KOR)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114  号： 33  ページ： 14233-14239  発行年： 2010年08月26日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Auワイア破損と黄化現象を引き起こすエポキシを用いない新規な高パフォーマンス封止材を開発するため高屈折率のメチレン-ビフェニレン-架橋シルセスキオキサン薄膜を4,4′-ビス(トリメトキシシリルメチル)ビフェニル(MBP)とメチルトリメトキシシラン(MTMS)モノマのモル比を様々に変えて合成した。薄膜サンプルは加水分解と縮合反応からなるゾル-ゲルプロセスを経由して前駆体を合成し,シリコンウエハ上にスピンコーティングして作製した。得られたこのサンプルはFTIR,XPSで化学的特性を,又光学特性は分光偏光解析(SE)で調べた。屈折率は0モル%MBPに対して1.40から100モル%MBPに対して1.60迄増加した。屈折率と消光係数に密接に関連した実数と虚数部分からなるこの誘電関数を又調べた。75と100モル%MBPsのサンプルで3.96eVでの新しいピークが虚数誘電関数で観察された。この新しいピークに対する主な発生源はビフェニル基を構成する六員環の擬B_1U←A_1g遷移からの4.67eVでのピークに対するそれと同じであることが考えられ,これは局所場補正かあるいはその平坦化モデルに依って説明された。

シソーラス用語： *有機ケイ素化合物 ,  *薄膜 ,  光学材料 ,  屈折率 ,  分子間相互作用 ,  FTIR分光法 ,  X線光電子分光法 ,  *偏光解析法 ,  消光比 ,  誘電関数 ,  虚数
準シソーラス用語： *シルセスキオキサン ,  *光学用薄膜 ,  *分光偏光解析法

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  偏光,複屈折,光学回転  (BD03040X)

物質索引 (2件)： メチルトリメトキシシラン ,  4,4′-ジ-tert-ブチル-2,2′-ビピリジン

タイトルに関連する用語 (8件)： メチレン ,  ビフェニレン ,  架橋 ,  シルセスキオキサン ,  薄膜 ,  屈折率 ,  分子間相互作用 ,  観察