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J-GLOBAL ID：201002254744112537   整理番号：10A1043525

大気圧マイクロ波プラズマを用いた表面処理におけるラジカルの効果

The Effect of Radicals on the Surface Treatment using Atmospheric Pressure Microwave Plasma

著者 (2件)： 小野茂 (東京都市大学工学部電気電子工学科) ,  山田雅仁 (東京都市大学工学部電気電子工学科)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 130  号： 10  ページ： 919-924 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大気圧マイクロ波プラズマ源の基礎特性の紹介と共に,ポリイミドフィルムの高速親水化処理および汚染物付着ステンレス板のプラズマ洗浄に関する実験研究を行い,その結果をプラズマ中のラジカル密度との観点から検討した。その結果,ポリイミドフィルムの親水化処理速度はラジカル密度の増加とともに増大し,極めて高速の処理が可能であり,またプラズマガスとしては,Ar-O₂よりもAr-H₂Oの方が水接触角の低下に効果があることが判明した。さらに,ラジカル洗浄効果は,ラジカル密度の高い領域程大きく,Ar-O₂よりもAr-H₂Oの方が洗浄効果が高いことが判った。また,Ar-H₂OプラズマのOHラジカルはプラズマ下流部でも可成り高密度に生成されることが判明した。

シソーラス用語： *大気プラズマ ,  *表面処理 ,  ラジカル ,  *表面改質 ,  原子 ,  プローブ ,  接触角 ,  *エンジニアリングプラスチック ,  親水性 ,  ポリイミド ,  高分子膜 ,  プラズマ源 ,  放電洗浄
準シソーラス用語： マイクロ波プラズマ ,  酸素原子 ,  触媒プローブ ,  水接触角 ,  プラズマ洗浄

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (14件)：

• 菅原實. プラズマを用いた素材の表面改質技術. 2003
• 貞本満. 高分子のプラズマ表面処理. 2010
• MATUSIEWICZ, H. A novel microwave plasma cavity assembly for atomic emission spectrometry. Spectrochim. Acta B. 1992, 47, 1221-1227
• SEKIGUCHI, H. Steam plasma reforming using microwave discharge. Thin Solid Films. 2003, 435, 44-48
• SHIN, D. H. Modification of metal surfaces by microwave plasma at atmospheric pressure. Surf. Coat. Tech. 2007, 201, 4939-4942

タイトルに関連する用語 (4件)： 大気圧 ,  マイクロ波プラズマ ,  表面処理 ,  ラジカル