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J-GLOBAL ID：201002254985680439   整理番号：10A0826464

ポリ(p-ベンズアミド)およびポリ(m-ベンズアミド)からなるジブロックコポリマーの集合,ゲル化不安定性とモルフォロジー

Aggregation, Gelation Instability, and Morphologies of Diblock Copolymers Consisting of Poly(p-benzamide) and Poly(m-benzamide)

著者 (4件)： KATAOKA Toshiyuki (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  OHISHI Tomoyuki (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  YOKOZAWA Tsutomu (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  IKEHARA Takayuki (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Polymer Science. Part B. Polymer Physics  (Journal of Polymer Science. Part B. Polymer Physics)
巻： 48  号： 15  ページ： 1732-1739  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： C0346B  ISSN： 0887-6266  CODEN： JPLPAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリベンズアミドジブロックコポリマー:PpBA-b-POmBA{B1}およびPmBA-b-POmBA{B2}を調製した(PpBA:ポリ(p-ベンズアミド);PmBA:ポリ(m-ベンズアミド);POmBA:ポリ(N-オクチル-m-ベンズアミド))。ジブロックコポリマーはN-Hポリアミドセグメントの集合性に基づきさまざまな溶媒中で球形ミセルやアモルファス集合体を形成した。B1はDMAc溶液中,PpBAブロックとLiClの強い相互作用によりミセルを形成することなく解離した。DMAcやNMP中で熱誘起ゲル形成したが,高温アニーリング後は冷却後もゲルを形成せず,物理架橋形成性のPpBA単位がミセル表面から内部に拡散したためと考えた。N-Hポリアミドの強い極性相互作用はゲルの粘弾性にも影響し,高蒸気圧溶媒(ジクロロメタン,クロロホルム,酢酸エチル)の蒸発で乾燥ゲル表面にハネカムパターンやネットワーク様パターンを現した。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  アミノ基 ,  化学結合 ,  塩化リチウム ,  *高分子溶液 ,  ミセル形成 ,  添加物効果 ,  *ゾル-ゲル転移 ,  溶媒効果 ,  表面構造 ,  動的光散乱 ,  原子間力顕微鏡 ,  芳香族カルボン酸 ,  カルボアミド
準シソーラス用語： N-H結合 ,  *ポリベンズアミド

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  芳香族単環カルボン酸の窒素誘導体  (CF05200S)

物質索引 (2件)： N-オクチルベンズアミド ,  ベンズアミド

タイトルに関連する用語 (6件)： ベンズアミド ,  ジブロックコポリマー ,  集合 ,  ゲル化 ,  不安定性 ,  モルフォロジー