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J-GLOBAL ID：201002255013143456   整理番号：10A0732035

ナノスケールトポグラフィを持つpH応答性表面

pH Responsive Surfaces with Nanoscale Topography

著者 (10件)： BOUSQUET Antoine (Univ. Bordeaux I, Pessac, FRA) ,  IBARBOURE Emmanuel (Univ. Bordeaux I, Pessac, FRA) ,  TERAN Francisco J. (IMDEA-Nanoscience, Madrid, ESP) ,  RUIZ Leire (Universidad del Pais Vasco, Vizcaya, ESP) ,  GARAY Maria Teresa (Universidad del Pais Vasco, Vizcaya, ESP) ,  LAZA Jose Manuel (Universidad del Pais Vasco, Vizcaya, ESP) ,  VILAS Jose Luis (Universidad del Pais Vasco, Vizcaya, ESP) ,  PAPON Eric (Univ. Bordeaux I, Pessac, FRA) ,  RODRIGUEZ-HERNANDEZ Juan (Univ. Bordeaux I, Pessac, FRA) ,  RODRIGUEZ-HERNANDEZ Juan (CSIC, Madrid, ESP)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 48  号： 14  ページ： 2982-2990  発行年： 2010年07月15日 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 両親媒性ジブロックコポリマー:ポリスチレン-b-ポリアクリル酸{PS-b-PAA}と高分子量ポリスチレン(マトリクス成分)をTHF溶液混合しシリコンウエハにスピンコーティングした薄膜(厚さ200~300nm)を真空乾燥後,湿った水蒸気または乾燥空気中で90~130°Cでアニーリングし速やかに冷却してキャラクタライズした。アニーリングによりポリマー表面の化学組成と親水性が変化し,水蒸気アニーリングで界面にジブロックコポリマーが富化されて自己集合しナノ構造ドメインを形成した。界面に置かれたPAAセグメントはpHに応答し,塩基性pH(pH=8.0)では伸張した親水性状態,酸性媒質(pH=3.5)中では崩壊した疎水性状態に変化し,表面モルフォロジーは膨潤ミセルからナノサイズポアに変化した。

シソーラス用語： *表面構造 ,  ブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリアクリル酸 ,  *ポリマブレンド ,  両親媒性高分子 ,  pH依存性 ,  高分子膜 ,  *刺激応答性高分子
準シソーラス用語： ポリマーフィルム

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (1件)： pH応答性