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J-GLOBAL ID：201002255216056010   整理番号：10A0700218

チオール-及びアルケン-不動態化したゲルマニウムナノワイヤの耐食性

Corrosion Resistance of Thiol- and Alkene-Passivated Germanium Nanowires

著者 (2件)： HOLMBERG Vincent C. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  KORGEL Brian A. (Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 22  号： 12  ページ： 3698-3703  発行年： 2010年06月22日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 応用上表面不動態化が不可欠であるが,同時に表面酸化の防止も必要な半導体ナノワイヤ(NW)について,アルキル及びアルカンチオール単分子層で不動態化したGeNWがかなり過酷な酸化条件下で耐性があることを報告した。チタン反応管中で超臨界状態にした無水ベンゼン(AB)にAuナノ結晶とジフェニルゲルマンとのAB溶液を噴射(反応管圧力:6.2MPa)する超臨界流体-液体-固体法でGeNWを合成した。反応系を所要温度まで冷却,各3種類のアルケン又はチオールのAB溶液を反応管内(220°C又は80°C)に噴射してNWを不動態化した。これを傾斜分離,洗浄精製後,乾燥した不動態化NW試料をXPS測定,SEM/TEM観察,及びATR-FTIR分光で特性解析し,非不動態化NW(AB噴射)と比較した。また,不動態化GeNWを下記の酸化性・腐食性環境に曝露し,XPSスペクトルとSEM像の変化から耐食性を評価した(空気,沸水,H₂SO₄/ジオキサン,H₂O₂)。アルキル-及びチオール-結合単分子層は,過酸化物曝露の場合(Ge-C結合の方がGe-S結合より少し耐酸化性が高い)を除きほぼ同等の安定性を示すことなどが分かった。

シソーラス用語： *ゲルマニウム ,  *ナノワイヤ ,  *不動態化 ,  *表面処理 ,  *化学合成 ,  超臨界流体 ,  金 ,  ナノ結晶 ,  有機硫黄化合物 ,  アルケン ,  噴射 ,  分散【dispersion】 ,  精製 ,  *単分子層 ,  表面構造 ,  微細構造 ,  化学結合 ,  X線光電子分光法 ,  ATR分光法 ,  FTIR分光法 ,  *耐食性 ,  過酸化水素 ,  酸化防止 ,  芳香族炭化水素
準シソーラス用語： ATR-FTIR分光法 ,  *表面不動態化

分類 (4件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  アルカン  (CF03020I) ,  脂肪族チオール  (CF03120R) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

物質索引 (8件)： 1-オクタデカンチオール ,  1-オクタデセン ,  1-ドデカンチオール ,  1-ドデセン ,  1-ヘキサンチオール ,  1-ヘキセン ,  ジフェニルゲルマン ,  ベンゼン

タイトルに関連する用語 (6件)： チオール ,  アルケン ,  不動態化 ,  ゲルマニウム ,  ナノワイヤ ,  耐食性