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J-GLOBAL ID：201002255769962493   整理番号：10A0422147

少数5重Bi₂Te₃膜における結晶対称性の破れ 位相絶縁体のナノメトロジーにおける応用

Crystal symmetry breaking in few-quintuple Bi₂Te₃ films: Applications in nanometrology of topological insulators

著者 (4件)： SHAHIL K. M. F. (Nano-Device Lab., Dep. of Electrical Engineering and Materials Sci. and Engineering Program, Bourns Coll. of ...) ,  HOSSAIN M. Z. (Nano-Device Lab., Dep. of Electrical Engineering and Materials Sci. and Engineering Program, Bourns Coll. of ...) ,  TEWELDEBRHAN D. (Nano-Device Lab., Dep. of Electrical Engineering and Materials Sci. and Engineering Program, Bourns Coll. of ...) ,  BALANDIN A. A. (Nano-Device Lab., Dep. of Electrical Engineering and Materials Sci. and Engineering Program, Bourns Coll. of ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 15  ページ： 153103  発行年： 2010年04月12日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 数ナノメートルからバルク限界までの厚みを持つ機械的に剥離した単結晶テルル化ビスマス膜のマイクロRaman分光研究の結果を報告した。バルクBi₂Te₃結晶中でRaman活性でない光学フォノンモードA_1uが結晶対称性の破れのため原子レベルの薄い膜に現れることが分かった。面外A_1uとA_1gモード対面内E_gモードの強度比は,膜厚を減少させると増加した。膜厚によるRaman特徴の発展は,位相絶縁体と熱電応用に重要な少数5重層厚みのBi₂Te₃結晶の識別に使用できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *テルル化物 ,  金属間化合物 ,  *金属薄膜 ,  *対称性の破れ ,  位相 ,  絶縁材料 ,  単位 ,  *単結晶 ,  剥離 ,  Raman分光法 ,  フォノン ,  膜厚 ,  熱電効果 ,  絶縁体
準シソーラス用語： ナノメータ ,  光学フォノン

分類 (1件)： 金属の結晶構造  (BK06000V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 結晶対称性 ,  位相 ,  絶縁体 ,  応用