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J-GLOBAL ID：201002255774779893   整理番号：10A0552770

超疎水性ナノ複合材料フォトレジストで製作した表面微小流体

SURFACE MICROFLUIDICS FABRICATED BY SUPERHYDROPHOBIC NANOCOMPOSITE PHOTORESIST

著者 (3件)： HONG Lingfei (Univ. California, Davis, USA) ,  HONG Lingfei (Beihang Univ., Beijing, CHN) ,  PAN Tingrui (Univ. California, Davis, USA)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 23rd Vol.1  ページ： 420-423  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 生物および化学分析用として,気泡などの流体障害物発生がないSMF(表面微小流体)ネットワークが注目を集めている。しかしこの手法の製作プロセスは複雑で高コストであり,制限された材料,分解能およびスループットの貧弱性といった課題が残されている。本論文では,大きな濡れ性を有するマイクロパターン化表面を製作するための,超疎水性およびフォトパターン可能性をもつ新しいナノ複合材料ベースフォトレジストにつき報告した。本フォトレジストはSMFネットワークの単一段フォトリソグラフィプロセスをもたらした。10μmのフォトリソグラフィ分解能と接触角160°の超疎水性を提示した。さらにマイクロパターン化濡れ性境界により固体/液体/空気界面の三重線を明確に定義することができ,SMFの新しい界面制御を可能にした。本フォトレジストにより,生物および化学応用への急速な対応が可能であり単純かつパワフルな微小流体製作が可能になった。

シソーラス用語： *疎水性 ,  *ナノ構造 ,  複合材料 ,  *フォトレジスト ,  フルイディクス ,  自由表面 ,  濡れ ,  パターン形成 ,  フォトリソグラフィー ,  接触角 ,  *マイクロフルイディクス
準シソーラス用語： パターンニング ,  濡れ性 ,  *微小流体素子

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  管内流  (BC02090Q)

タイトルに関連する用語 (6件)： 疎水性 ,  ナノ複合材料 ,  フォトレジスト ,  製作 ,  微小 ,  流体