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J-GLOBAL ID:201002255781764397   整理番号:10A0981479

ナローギャップ半導体FeSb2の磁化過程

Magnetization Process of Narrow-Gap Semiconductor FeSb2
著者 (4件):
資料名:
巻: 79  号:ページ: 093704.1-093704.4  発行年: 2010年09月15日 
JST資料番号: G0509A  ISSN: 0031-9015  CODEN: JUPSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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磁化率が異常な温度依存性を示すナローギャップ半導体FeSb2の高品質単結晶の磁化を測定した。慣用のStoner-Wohlfath理論では,磁化の自由エネルギーの四次展開係数(γ)はFermi準位付近の状態密度曲線から主に決定され,ナローギャップ半導体では負のγ値が予想される。しかしFeSb2では,γは正で温度と共に急速に変化することが分かった。これらの挙動はFeSiのものに似ており,Takahashiのスピン揺らぎ理論と定性的に一致する。これは巡回電子系の磁化過程がスピン揺らぎの相関モードにより支配されることを意味する。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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金属の磁区及び磁化過程 
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