文献
J-GLOBAL ID:201002255993575837   整理番号:10A0640442

Si(100)基板上のセミポーラr面酸化亜鉛膜

Semipolar r-plane ZnO films on Si(100) substrates: Thin film epitaxy and optical properties
著者 (5件):
資料名:
巻: 107  号: 11  ページ: 113530  発行年: 2010年06月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Si(100)基板上の(1012)配向(r面)酸化亜鉛膜のヘテロエピタキシャル成長について報告する。膜をパルスレーザ蒸着で作成し,正方晶イットリア安定化ジルコニア(YSZ)バッファ層を用いてシリコンと酸化亜鉛の一体化を達成した。比較的高い酸素圧(約70mTorr)を持つ700~750°Cの温度で成長させた酸化亜鉛は(1012)に配向することを観測した。より低い酸素圧で蒸着した酸化亜鉛膜は,純粋に(0002)配向することを見いだした。酸素圧の役割を調べるために行った実験から,酸化亜鉛の結晶方向はYSZ層の原子終端の性質に依存することが分かった。酸化亜鉛の結晶方向が,ZnO-YSZ界面と結びついた化学的自由エネルギーによって制御されるという提案を行った。X線回折と透過型電子顕微鏡による詳細な研究から,r面酸化亜鉛膜の面内ドメインに4種類の型が存在すること示した。光学特性評価から,r面酸化亜鉛膜のフォトルミネセンスは,同様の条件で作成したc面酸化亜鉛膜のものよりも優れていることを実証した。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る