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J-GLOBAL ID：201002256065271327   整理番号：10A0887421

限界に挑戦する最新リソグラフィー マスク検査技術-極限の検査で見えてくる光学系の不思議-

著者 (1件)： 高田聡 (トプコン 研究開発セ)
資料名： O plus E  (O plus E)
号： 370  ページ： 1070-1074  発行年： 2010年08月25日 
JST資料番号： Z0994A  ISSN： 0911-5943  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マスク検査装置には解像限界を超えた欠陥検出精度が要求され,検査像に含まれる微小欠陥で生じる僅かなコントラスト変化も検出する必要がある。最近,照明光学系に起因する,従来のものと全く異なるゴースト像の発生が報告された。本稿では,まずこのゴースト像の発生原因とその制御方法を述べた。次に,解像限界以下の欠陥検出精度改善のために,偏光変化検出による新しい欠陥検査方式を提案し,数値計算によりその有効性を明らかにした。

シソーラス用語： 試験装置 ,  *検査 ,  フォトマスク ,  *半導体プロセス ,  回路パターン形成 ,  故障検出 ,  精度 ,  検出限界 ,  分解能 ,  *ゴースト ,  偏光 ,  数値計算 ,  光学系
準シソーラス用語： *マスク検査 ,  検査装置 ,  欠陥検出 ,  検出精度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• A. Takada, T. Tojo, and M. Shibuya: “Image quality improvement in inspection systems using double integrator illumination,” Proc. SPIE, Vol.6518, pp. 65184B 1~9(2007)
• A. Takada, T. Tojo, and M. Shibuya: “Coherence Control of illumination Optics in Mask Inspection Systems,” J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, Vol.7, pp. 043010 1~8(2008)
• A. Takada and M. Shibuya: “Mask defect inspection by detcting polarization variations,” Proc. SPIE, Vol.7638, pp. 76382Y 1~8(2010)
• K. Oohashi, H. Inoue, T. Nomura, A. Ono, M. Tabata, and H. Suzuki: “Newly developed mask inspection system with DUV laser illumnation,” Proc. SPIE, Vol.4066, pp. 452~461(2000)
• 渋谷眞人, 大木裕史:「回折と結像の光学」,2.3節, 朝倉書店 (2005)

タイトルに関連する用語 (6件)： 限界 ,  リソグラフィー ,  マスク検査 ,  極限 ,  検査 ,  光学系