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J-GLOBAL ID：201002256087282438   整理番号：10A0932313

近未来に役立つ光メモリの技術 PTMを用いた高密度マスタリングとNear Field技術

著者 (1件)： 高橋謙作 (ソニー)
資料名： Optronics  (Optronics)
号： 345  ページ： 128-132  発行年： 2010年09月10日 
JST資料番号： Y0019A  ISSN： 0286-9659  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ブルーレイディスク(BD)(登録商標)の確立を担った相転移マスタリング(PTM)技術の基本特性を光ディスク作成プロセスと共に述べた後,BDを越える超高密度露光技術を紹介し,PTM技術のポテンシャルについて述べた。ストレージ技術の大容量化の要求に応え得る,単層100GBを越える光ディスクマスタリング技術について述べた。PTM技術の高密度記録に対するポタンシャルはさらに高く,Near Field露光技術との併用により大幅な大容量化の可能性がある。

シソーラス用語： 露光 ,  光学系 ,  *レーザ記録 ,  *光磁気記録 ,  相転移 ,  生産工程 ,  *光ディスク ,  ROM【メモリ】
準シソーラス用語： *近接場記録 ,  マスタリング

分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 未来 ,  光メモリ ,  高密度 ,  マスタリング