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J-GLOBAL ID:201002256611835539   整理番号:10A1081252

高性能PMN-PT厚膜

High-Performance PMN-PT Thick Films
著者 (6件):
資料名:
巻: 57  号: 10  ページ: 2205-2212  発行年: 2010年10月 
JST資料番号: H0369A  ISSN: 0885-3010  CODEN: ITUCER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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スクリーン印刷技術を用いて,高エネルギー粉砕ナノサイズ粉末から,0.65Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.35PbTiO3(0.65PMN-0.35PT)厚膜を,白金(Pt)被覆アルミナ基板上に作製した。この高エネルギー粉砕粉末により,950°Cで化学的均一な0.65PMN-0.35PT厚膜の処理を可能にした。白金被覆アルミナ基板との0.65PMN-0.35PT層の密着性を改善するため,Pb(Zr0.53Ti0.47O3(PZT)層をスクリーン印刷し,950°Cで2時間電極と基板間に燒結した。最適量の充填粉末とともに0.65PMN-0.35PT中過剰PbOにより,液相の存在下で0.65PMN-0.35PTの焼成を可能にし,良好な誘電と圧電特性をもつ高密厚膜を得た。0.65PMN-0.35PT膜の2次効果を測定した。その実効係数M33effは,7.6×10-16m2/V2と高かった。0.65PMN-0.35PT厚膜の高電歪により,0.65PMN-0.35PT/Pt厚膜に基づくアクチュエータを作製することを決定した。3.6kV/cmの印加電界で55μm/cmの変位を有するアクチュエータの高曲げ性を得た。有限要素方法(FEM)を用いて,曲げ対電界を計算し,その計算結果は低電界で測定データと良く一致した。
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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