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J-GLOBAL ID:201002257517322478   整理番号:10A0867172

APVCDによって調製された酸化すずナノ結晶の微細構造特性に及ぼす基材温度の影響

The effect of substrate temperature on the microstructural properties of nanocrystalline tin oxide coatings produced by APCVD
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 503-510  発行年: 2010年07月 
JST資料番号: H0021C  ISSN: 1547-0091  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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大気圧化学蒸着(APVCD)を用いてガラス基板上で塩化すずと水を反応させることによって酸化すずナノ結晶による透明電導性薄膜を形成させる工程において,膜厚と微細構造を制御するための加工条件について検討した。加工条件は大気圧において基板温度400-600°C,蒸着時間15-60分とし,塩化すずと水蒸気を酸素ガスで輸送した。蒸着膜をX線回折,走査電子顕微鏡及び原子間力顕微鏡で調べた。基板温度が高く蒸着時間が長いほど結晶粒径と膜厚が増加した。また温度が高いほど表面粗さが大きくなり,時間が長いほど平滑になった。結晶の大部分は二酸化すずであったが,600°C,45及び60分では一部が一酸化すずであった。温度と時間によって結晶配向が変化した。
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分類 (3件):
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半導体薄膜  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  繊維改質 
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