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J-GLOBAL ID：201002257745632576   整理番号：10A0918288

直流およびパルス電源を用いて種々の加工金属について得た真空破壊限界および量子効率

Vacuum breakdown limit and quantum efficiency obtained for various technical metals using dc and pulsed voltage sources

著者 (6件)： LE PIMPEC F. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  GOUGH C. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  PARALIEV M. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  GANTER R. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  HAURI C. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE) ,  IVKOVIC S. (Paul Scherrer Inst., CH-5232 Villigen PSI, CHE)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28  号： 5  ページ： 1191  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SwissFELプロジェクトでは先進の高勾配低エミッタンス銃を開発中である。空間電荷効果によるエミッタンス希釈を最小にするため,紫外レーザ存在下の二極構造において,好ましくは4mmの間隙で125MV/mを超える電場での信頼性の高い動作が実現されなければならない。最初のフェーズでは,直流破壊試験台を用いて100kVまでの電圧で,種々の調製法による種々の金属を試験した。粗く加工(R_a<200nm)したあとアルゴングロープラズマ処理した金属電極に関する勾配は,鏡面状電極(R_a<40nm)で得たものとほぼ同じであることがわかった。また,最小暗電流での高信頼性スパークフリー動作を証明するため,高勾配安定性試験も数日間にわたって実施した。第二フェーズでは,250nsFWHMの500kV電子銃において,選択した材料の電極を装備し,高勾配破壊および量子効率について試験をおこなった。種々の金属電極を用いて,種々の電荷での50MV/m(間隙6mm,繰返し周波数10Hz)における破壊のない日常の電子銃動作を実現した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： X線レーザ ,  *自由電子レーザ ,  電源装置 ,  直流電源 ,  *絶縁破壊 ,  *量子効率 ,  エミッタンス ,  電場勾配 ,  電極 ,  紫外レーザ ,  表面粗さ ,  プラズマ処理 ,  *電子銃 ,  100-1000keV ,  FWHM ,  電子ビーム ,  暗電流 ,  信頼性試験 ,  *X線自由電子レーザ
準シソーラス用語： パルス電源 ,  安定性試験 ,  金属電極

分類 (2件)： その他のレーザ  (BD04090H) ,  電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 直流 ,  パルス電源 ,  真空 ,  破壊 ,  限界 ,  量子効率