文献
J-GLOBAL ID:201002258028445903   整理番号:10A1336996

リチウム化ケイ素における応力-電位結合のその場測定

In Situ Measurements of Stress-Potential Coupling in Lithiated Silicon
著者 (4件):
資料名:
巻: 157  号: 11  ページ: A1253-A1261  発行年: 2010年 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
リチウム化ケイ素電極の応力を与えた状態への電位の依存性を調べた。固溶体におけるLarcheとCahnの化学ポテンシャルに基づいて,リチウム化ケイ素における応力-電位の結合の存在について熱力学的検討を行った。この物質の既知物性に基づき,薄膜幾何構造の場合はこの結合の大きさを~60mV/GPaと求めた。ケイ素の薄膜電極において実験研究を行い,電気化学的リチウム化と脱リチウム化の間のその場応力測定を行った。脱リチウム化の微分増加による応力の逐次変化により,応力変化と電位変化の間の関係は100~120mV/GPaで,解析による予測と一致する。電位対電荷状態のプロットの関係におけるヒステリシスの説明,及び,応力下のケイ素電極の最大放電容量の改良における応力の役割の観点から結合の重要性を考察した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
二次電池  ,  電気化学反応  ,  電気物性一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る