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J-GLOBAL ID：201002258820139755   整理番号：10A0177906

真空紫外エキシマレーザビームと融解シリカとの相互作用 II. 中性の原子と分子の放出

Interaction of vacuum ultraviolet excimer laser radiation with fused silica: II. Neutral atom and molecule emission

著者 (3件)： GEORGE Sharon R. (Dep. of Physics and Astronomy, Washington State Univ., Pullman, Washington 99164-2814, USA) ,  LANGFORD S. C. (Dep. of Physics and Astronomy, Washington State Univ., Pullman, Washington 99164-2814, USA) ,  DICKINSON J. T. (Dep. of Physics and Astronomy, Washington State Univ., Pullman, Washington 99164-2814, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 107  号： 3  ページ： 033108  発行年： 2010年02月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学破壊閾値以下のフルエンスで157nmのエキシマレーザパルスを融解シリカに照射したときのSi,O,SiOを放出を質量分解飛行時間法により測定した。放出強度は格子中の歪結合密度に影響する熱処理の影響を強く受けたが,点欠陥密度を変える機械的処理(研磨や剥離)により一貫した影響は認めなかった。単一の157nm光子の吸収は歪んだ結合を切断し,引き続き表面に拡散する欠陥を生成すると提唱した。それらは表面でダングリングボンドと反応して中性の原子及び分子を放出する。これらの欠陥を含むクラスタに関するHartree-Fock計算は欠陥相互作用が放出を誘起させ得ることを裏付ける。反結合化学状態の光電子励起による,より直接的な放出も支持される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： エキシマレーザ ,  *パルスレーザ照射 ,  *石英ガラス ,  飛行時間法 ,  真空紫外線 ,  点欠陥 ,  欠陥密度 ,  光吸収 ,  ダングリングボンド ,  Hartree-Fock法 ,  状態 ,  光電子 ,  *粒子放出 ,  酸素 ,  ケイ素 ,  酸化ケイ素
準シソーラス用語： *融解シリカ ,  化学状態 ,  原子放出 ,  分子放出

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (8件)： エキシマレーザ ,  ビーム ,  融解シリカ ,  相互作用 ,  中性 ,  原子 ,  分子 ,  放出