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J-GLOBAL ID：201002258882328120   整理番号：10A0641102

複屈折多孔質シリコンにおける光学異方性の温度依存性

Temperature dependence of optical anisotropy of birefringent porous silicon

著者 (4件)： NISHIDA Kohei (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe Univ., Rokkodai, Nada, Kobe ...) ,  FUJII Minoru (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe Univ., Rokkodai, Nada, Kobe ...) ,  HAYASHI Shinji (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Kobe Univ., Rokkodai, Nada, Kobe ...) ,  DIENER Joachim (Physik-Department E16, Technische Universitaet Muenchen, D-85747 Garching, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 24  ページ： 243102  発行年： 2010年06月14日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (110)Siウエハから作製した複屈折多孔質シリコンにおける面内光学異方性の温度依存性を調べた。[001]及び[1-10]方向で温度が30から100°Cに上昇すると屈折率の異方性が約0.3%増加した。有効媒質近似で低温の実験結果を再現できるが,高温では不一致が生じた。この不一致は多孔質Siの構造異方性は比較的低温で緩和することを示唆している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *複屈折 ,  *多孔質シリコン ,  温度依存性 ,  有効媒質近似 ,  数値計算 ,  異方性 ,  構造緩和

分類 (1件)： 光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 複屈折 ,  多孔質シリコン ,  光学異方性 ,  温度依存性