イオン液体触媒反応の試み 高規則度アルミナ表面上の[BMIM][Tf2N]薄膜の成長,配向,コンフォメーションと薄膜中の[Tf2N]-アニオンの相互作用機構

SOBOTA Marek; NIKIFORIDIS Ioannis; HIERINGER Wolfgang; PAAPE Natalia; HAPPEL Markus; STEINRUECK Hans-Peter; GOERLING Andreas; WASSERSCHEID Peter; LAURIN Mathias; LIBUDA Joerg

文献

J-GLOBAL ID：201002259150869257 整理番号：10A0602877

イオン液体触媒反応の試み高規則度アルミナ表面上の[BMIM][Tf₂N]薄膜の成長,配向,コンフォメーションと薄膜中の[Tf₂N]^-アニオンの相互作用機構

Toward Ionic-Liquid-Based Model Catalysis: Growth, Orientation, Conformation, and Interaction Mechanism of the [Tf₂N]^- Anion in [BMIM][Tf₂N] Thin Films on a Well-Ordered Alumina Surface

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資料名：
巻： 26 号： 10 ページ： 7199-7207 発行年： 2010年05月18日
JST資料番号： A0231B ISSN： 0743-7463 CODEN： LANGD5 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

イオン液体薄膜/酸化物基板間相互作用を検討した。水溶液で1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムブロミド[BMIM][Br]をビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドリチウムLi[Tf₂N]に加えた。生成した[BMIM][Tf₂N]を超高真空中で原子的に平坦なNiAl(110)上の高規則度アルミナ膜に蒸着して薄膜とした。時間分解IRASにより膜の成長過程とその後の熱脱着を追跡した。吸脱着は可逆的分子過程であり,分解は起きない。密度汎関数法計算を参考に振動バンドを帰属した。[Tf₂N]^-(Z)の個々のバンドの相対的変化が単分子層領域で強く現れ,このイオンは配向が著しい。Zの吸着構造は密度汎関数法を基に決定した。Yアニオンは単分子層未満でcisに配座し,スルホン酸基を介した基板との相互作用が主因で表面に対しわずかに傾いて配向する。カチオン[BMIM]⁺は配向を判別できなかった。

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有機化合物の薄膜 , 融解塩 , 固-液界面

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イオン液体触媒反応の試み 高規則度アルミナ表面上の[BMIM][Tf2N]薄膜の成長,配向,コンフォメーションと薄膜中の[Tf2N]-アニオンの相互作用機構

イオン液体触媒反応の試み高規則度アルミナ表面上の[BMIM][Tf₂N]薄膜の成長,配向,コンフォメーションと薄膜中の[Tf₂N]^-アニオンの相互作用機構