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J-GLOBAL ID：201002259161920980   整理番号：10A0604536

塩基性硝酸ビスマス(III)/BiVO₄複合体における有機汚染物質の強化された光触媒分解

Enhanced photocatalytic degradation of organic pollutants over basic bismuth (III) nitrate/BiVO₄ composite

著者 (6件)： LIU Yuanyuan (State Key Lab. of Crystal Materials, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China) ,  WANG Zeyan (State Key Lab. of Crystal Materials, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China) ,  HUANG Baibiao (State Key Lab. of Crystal Materials, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China) ,  ZHANG Xiaoyang (State Key Lab. of Crystal Materials, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China) ,  QIN Xiaoyan (State Key Lab. of Crystal Materials, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China) ,  DAI Ying (School of Physics, Shandong Univ., Jinan 250100, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 348  号： 1  ページ： 211-215  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 共沈法によって,塩基性硝酸ビスマス(III)/BiVO₄複合体を調製した。X線粉末回折(XRD),走査電子顕微鏡法(SEM),高分解能透過型電子顕微鏡(HR-TEM),拡散反射分光法(DRS),N₂吸着,及びX線光電子分光法(XPS)を含むさまざまな方法を用いて,生じた物質の特性評価をした。複合体は,有機汚染物質(RhB,MO,フェノール,及び2-プロパノール)の分解において,BiVO₄よりも高い光触媒活性を示した。強化された光触媒活性のメカニズムが提案された。ヒドロキシラジカルでの試験によって,提案されたメカニズムを確認した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *硝酸塩 ,  *バナジウム酸塩 ,  *汚染物質 ,  光触媒反応 ,  接触分解 ,  共沈 ,  *複合体 ,  ヒドロキシルラジカル ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  高分解能電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  反射スペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  フェノール類 ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： *バナジン酸ビスマス ,  光触媒活性 ,  *光触媒分解 ,  *硝酸ビスマス(III) ,  HRTEM法 ,  拡散反射スペクトル

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (2件)： フェノール ,  2-プロパノール

タイトルに関連する用語 (7件)： 塩基性 ,  硝酸ビスマス ,  BiVO4 ,  複合体 ,  有機汚染物質 ,  強化 ,  光触媒分解