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J-GLOBAL ID:201002259372827080   整理番号:10A0684866

大面積色素増感太陽電池用のAgグリッドのホウケイ酸ビスマス基の厚膜による不動態化

Bismuth Borosilicate-Based Thick Film Passivation of Ag Grid for Large-Area Dye-Sensitized Solar Cells
著者 (4件):
資料名:
巻: 93  号:ページ: 1554-1556  発行年: 2010年06月 
JST資料番号: C0253A  ISSN: 0002-7820  CODEN: JACTAW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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色素増感太陽電池の,Ag電極とI-/I3-電解質の間の反応によるAg電極の腐食を防ぐためのホウケイ酸酸ビスマスガラス基の不動態層を報告した。当該ガラス被覆層はスクリーン印刷後に480~540°Cの温度範囲で焼成して作製した。不動態層の効果は焼成温度に大きく依存した。540°Cで焼成した膜は完全に緻密で,約70%のUV-可視透過率があり,I-/I3-電解質に10日浸漬してもAg/フッ素添加酸化スズ基材の電気抵抗が劣化しなかった。
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分類 (1件):
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太陽電池 

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