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J-GLOBAL ID：201002259387209910   整理番号：10A1197833

フェノール誘導体によるトリメシン酸とピロメリト酸の共結晶/クラスレートの結晶構造におけるカルボン酸とフェノール性水酸基の相互作用

Carboxylic Acid and Phenolic Hydroxyl Interactions in the Crystal Structures of Co-Crystals/Clathrates of Trimesic Acid and Pyromellitic Acid with Phenolic Derivatives

著者 (3件)： RAJPUT Lalit (Indian Inst. of Technol., Kharagpur, IND) ,  JANA Navendu (Indian Inst. of Technol., Kharagpur, IND) ,  BIRADHA Kumar (Indian Inst. of Technol., Kharagpur, IND)
資料名： Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)
巻： 10  号： 10  ページ： 4565-4570  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トリメシン酸(H₃TMA)とピロメリト酸(H₄PMA)はフェノールあるいはm-クレゾール溶媒中で共晶を形成する傾向がある。カルボン酸二量体中に水酸基が入り込んで形成されたシントンIIをX線回折によって観測した。このシントンIIの変化によってH₃TMAの蜂の巣状の網目構造は変形し,魚骨配列になった。この構造変化によって生じた空洞にはフェノールの芳香族部分が充填された。しかし,-COOHシントン中へのフェノール基の挿入はH₄PMAの場合は観測されなかった。最初にH₄PMAはフェノール,o-,p-,m-クレゾールおよびp-クロロフェノールのようなフェノール性ゲストを加えるとクラスレート化合物を形成した。それから4種のゲスト分子によるH₄PMA錯体はすべてシントンIによる正方格子の網目構造を形成した。さらに,これらの正方格子構造では2つの充填モードがホスト/ゲスト比とゲスト分子のサイズに依存して観測された。H₃TMAの場合フェノールがシントンIを分離するが,H₄PMAの場合フェノールはシントンIによる正方格子の形成を誘導することがわかった。H₃TMAのフェノール錯体は共晶と見なすことができるが,H₄PMAはクラスレートと見なされる。シントンIIと-IIIの結晶構造決定(CSD)によって,酸-塩基度と水素結合強度の間に相関関係のあることを示した。

シソーラス用語： *水素結合錯体 ,  *共晶 ,  溶液成長 ,  二量体 ,  単結晶 ,  X線回折 ,  *結晶構造 ,  単斜晶系 ,  三斜晶系 ,  格子定数 ,  包接化合物 ,  ネットワーク構造 ,  フェノール類 ,  芳香族カルボン酸 ,  ポリカルボン酸

分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  分子化合物の結晶構造  (BK09050T)

物質索引 (7件)： m-クレゾール ,  p-クレゾール ,  p-クロロフェノール ,  トリメシン酸 ,  ピロメリト酸 ,  フェノール ,  o-クレゾール

タイトルに関連する用語 (10件)： フェノール誘導体 ,  トリメシン酸 ,  ピロメリト酸 ,  共結晶 ,  クラス ,  レート ,  結晶構造 ,  カルボン酸 ,  フェノール性水酸基 ,  相互作用