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J-GLOBAL ID：201002259422790027   整理番号：10A0340067

プラズマ高分子の物理的 vs フォトリソグラフィーによるパターン形成 TOF-SIMSおよび多変量分析による検討

Physical vs Photolithographic Patterning of Plasma Polymers: An Investigation by ToF-SSIMS and Multivariate Analysis

著者 (3件)： MISHRA Gautam (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  EASTON Christopher D. (Swinburne Univ. Technol., Victoria, AUS) ,  MCARTHUR Sally L. (Swinburne Univ. Technol., Victoria, AUS)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 5  ページ： 3720-3730  発行年： 2010年03月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アクリル酸,アリルアミン,メタクリル酸グリシジル,無水マレイン酸,テトラグライムのプラズマ重合膜をケイ素基板表面に形成した。原子間力顕微鏡,透過型電子顕微鏡,飛行時間型二次イオン質量分析および主成分分析などの多変量分析により結果を解析した。TEM格子をマスクに用いプラズマ重合により物理的パターン形成を行った。ポジティブフォトレジストを用いてフォトリソグラフィーによりパターンを形成した。フォトリソグラフィーにより1μmパターンが容易に形成でき,境界断面も明確であることを確かめた。物理的パターニングはプラズマの回り込み拡散により化学的分解能が低下する。

シソーラス用語： *プラズマ重合 ,  *高分子膜 ,  ウエハ【IC】 ,  *パターン形成 ,  *リソグラフィー ,  多変量解析 ,  原子間力顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  質量分析計 ,  二次イオン質量分析 ,  主成分分析 ,  分解能 ,  表面構造 ,  脂肪族カルボン酸 ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  脂肪族アミン ,  アリル化合物 ,  第一アミン ,  酸素複素環化合物 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸無水物 ,  ジカルボン酸
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  多変量分析 ,  飛行時間型質量分析計

分類 (4件)： 単独重合  (CG04020S) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (5件)： アクリル酸 ,  アリルアミン ,  テトラグライム ,  メタクリル酸グリシジル ,  無水マレイン酸

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  高分子 ,  物理 ,  Vs ,  フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  TOF-SIMS ,  多変量分析