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J-GLOBAL ID：201002259440425360   整理番号：10A0496647

グリセロールと過酸化水素によるta-Cの気相潤滑 実験と計算機モデリング

Gas-Phase Lubrication of ta-C by Glycerol and Hydrogen Peroxide. Experimental and Computer Modeling

著者 (7件)： MARTIN Jean-Michel (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  DE BARROS BOUCHET Maria-I. (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  MATTA Christine (Ecole Centrale de Lyon, Ecully, FRA) ,  ZHANG Qing (California Inst. of Technol., Pasadena, USA) ,  GODDARD William A., III (California Inst. of Technol., Pasadena, USA) ,  OKUDA Sachiko (Nissan Motor CO., LTD., Yokohama, JPN) ,  SAGAWA Takumaru (Nissan Motor CO., LTD., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114  号： 11  ページ： 5003-5011  発行年： 2010年03月25日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 摩擦実験と計算機シミュレーションにより,四配位・水素フリー・非晶質・ダイヤモンド様・炭素被覆(ta-C)とグリセロール,過酸化水素間の摩擦化学相互作用について調べた。PVDプロセスによって調製したta-C被覆は,sp³混成炭素により超高真空中で高摩擦である。界面での不飽和炭素原子が生成したダングリング結合は大きな剪断力を生じる。グリセロールと過酸化水素気体はta-C表面を潤滑する。ta-C表面はsp²リッチであり,高反応性sp¹炭素原子を含み,既報FETEM結果と一致する。裸のta-Cの摩擦は非常に大きく,UHV摩耗試験結果と一致する。グリセロールは多数の水分子を含むフラグメントに直ちに化学解離する。過酸化水素への裸のta-Cの暴露は,H/OH終結によるsp¹とsp²炭素の飽和をもたらし,表面の摩擦はさらに低下する。

シソーラス用語： 二次イオン質量分析 ,  剪断 ,  摩擦 ,  *潤滑 ,  *過酸化水素 ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  摩擦試験 ,  計算機シミュレーション ,  気相 ,  摩擦係数 ,  摩耗 ,  水 ,  表面構造 ,  分子軌道 ,  脂肪族アルコール ,  ポリオール
準シソーラス用語： TOF-SIMS ,  分子動力学シミュレーション

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (1件)： グリセロール

タイトルに関連する用語 (7件)： グリセロール ,  過酸化水素 ,  ta-C ,  気相 ,  潤滑 ,  実験 ,  計算機モデリング