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J-GLOBAL ID：201002259485435677   整理番号：10A0887016

高開口数集束系における2D強度合成のための瞳マスク

Pupil masks for 2-D intensity synthesis in a high numerical aperture focusing system

著者 (3件)： RATTANAVIJA Leelada (Chulalongkorn Univ., Bangkok, THA) ,  SHERIF Sherif S. (Univ. Manitoba, MB, CAN) ,  MOHAMMED Waleed S. (Chulalongkorn Univ., Bangkok, THA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7743  ページ： 77430N.1-77430N.7  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光学技術は広範囲の技術進歩の最重要点である。1873年,Ernst Abbeは,光学顕微鏡の分解能がその回折によって対物レンズの開口数(NA)に関連付けられることを発見した。NAはレンズの開口サイズを説明する最も便利な方法で,レンズに入る回折光の最大半角の正弦と周辺媒体の屈折率との積としてNA=nsinαで記述することができる。本論では,Debye-Wolf電磁回折積分を用いて,高NAレンズの集束について記述した。Gauss焦点面において,回折限界内で,任意の強度分布を得るために,瞳マスクを実現した。この最適手法を用い,必要強度と出力強度間の誤差を最小にすることによって瞳マスクを創出した。

シソーラス用語： 開口数 ,  集束 ,  二次元 ,  強度 ,  *瞳孔 ,  *マスク ,  *光学顕微鏡 ,  分解能 ,  光回折 ,  対物レンズ ,  開口 ,  屈折率 ,  誤差
準シソーラス用語： 強度分布 ,  *瞳

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光学顕微鏡,望遠鏡  (QF05050R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高開口数 ,  集束 ,  2D ,  瞳 ,  マスク