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J-GLOBAL ID：201002259522722525   整理番号：10A0826553

シリコンにおける三ビーム回折のRenniner(222/113)事例に伴う動的回折現象の高分解能研究

High-resolution study of dynamical diffraction phenomena accompanying the Renninger (222/113) case of three-beam diffraction in silicon

著者 (2件)： KAZIMIROV A. (Cornell Univ., NY, USA) ,  KOHN V.G. (Russian Res. Center ‘Kurchatov Inst.’, Moscow, RUS)
資料名： Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography  (Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography)
巻： 66  号： 4  ページ： 451-457  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： A0315B  ISSN： 0108-7673  CODEN： ACACEQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： X線 ,  *X線回折 ,  高分解能 ,  コリメーション ,  *ケイ素 ,  全反射 ,  反射率 ,  シンクロトロン放射
準シソーラス用語： *シリコン ,  *単色X線

分類 (2件)： 非金属元素とその化合物の結晶構造  (BK07010N) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン ,  ビーム ,  回折 ,  回折現象 ,  高分解能 ,  研究