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J-GLOBAL ID：201002259649576200   整理番号：10A0401342

表面局在無機ラジカルおよびラジカルイオンのEPRキャラクタリゼーションおよび反応性

EPR Characterization and Reactivity of Surface-Localized Inorganic Radicals and Radical Ions

著者 (3件)： CHIESA Mario (Universita di Torino, Torino, ITA) ,  GIAMELLO Elio (Universita di Torino, Torino, ITA) ,  CHE Michel (Univ. Pierre et Marie Curie-Paris 6, Paris, FRA)
資料名： Chemical Reviews  (Chemical Reviews)
巻： 110  号： 3  ページ： 1320-1347  発行年： 2010年03月 
JST資料番号： B0256A  ISSN： 0009-2665  CODEN： CHREAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化物表面の無機ラジカル(酸素を除く)の表面相互作用および構造-活性相関に関する電子常磁性共鳴研究について総説した。A.序論 B.固体表面と常磁性種 C.EPR技術および表面化学 C1.スピンハミルトニアン式 C2.単結晶系 C3.無秩序系 D.固体表面におけるラジカル種生成 D1.表面ラジカル生成機構 D2.ラジカルと表面の間の化学結合 D3.ラジカル中間体の同定および不均一系触媒反応における反応性 D4.不均一系光触媒におけるラジカル中間体 E.表面ラジカル種のEPRの実験的アプローチ E1.表面吸着サイトの常磁性プローブ E2.固体表面における吸着種の分子運動 F.表面無機ラジカルの主な群 電子配置および構造 F1.単原子種 F2.二原子ラジカル種 F3.三原子,四原子,および五原子ラジカル種 G.カーボン含有無機ラジカル G1.CO₂^-ラジカルアニオン G2.一酸化炭素から生成するラジカル種 G3.カーボンを含む四および五原子ラジカル種 H.窒素含有ラジカル H1.11電子πラジカルのgテンソル H2.二原子種,二窒素ラジカルアニオン H3.二原子種,酸化窒素,多目的表面プローブ(カチオンサイト;アニオンサイト;表面遷移金属イオンのプローブとしてのNO) H4.窒素含有三原子表面ラジカル H5.窒素含有四および五原子表面ラジカル I.硫黄および塩素含有ラジカル。

シソーラス用語： *ラジカル ,  *ラジカルイオン ,  *無機化合物 ,  *酸化物 ,  *表面 ,  相互作用 ,  構造活性相関 ,  *ESR【磁気共鳴】 ,  常磁性 ,  スピン標識 ,  常磁性中心 ,  スピンハミルトニアン ,  単結晶 ,  無秩序系 ,  反応機構 ,  化学結合 ,  反応中間体 ,  触媒 ,  光触媒 ,  吸着 ,  分子運動 ,  電子構造
準シソーラス用語： EPR【磁気共鳴】 ,  界面相互作用 ,  常磁性プローブ ,  不均一系触媒

分類 (3件)： その他の無機化合物のEPR  (BM07023D) ,  触媒の性質一般  (CB06121R) ,  無機物質中のラジカルの物理分析  (CC03023Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： ラジカル ,  ラジカルイオン ,  EPR ,  キャラクタリゼーション ,  反応性