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J-GLOBAL ID:201002259827817925   整理番号:10A1140132

人間×環境×マテリアル-ヒューマンアダプティブ・マテリアルの開拓-No.12(最終回)有機・無機ハイブリッド薄膜材料の創製

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巻: 30  号: 12  ページ: 61-69  発行年: 2010年11月05日 
JST資料番号: Y0021A  ISSN: 0286-4835  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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20世紀第4四半世紀の産業を牽引した半導体集積回路産業を支えたキーマテリアルが最も完全で,純度の高いSi単結晶であることは疑いがない。Si単結晶と安定な酸化物であるSiO2があって初めて超高集積回路ができた。低環境負荷・省エネルギー・持続的発展の可能な21世紀社会を支える産業は何であるか?筆者はフレキシブルディスプレー,電子広告,電子ペーパー,フィルム型バッテリーなどの「フィルムベースエレクトロニクス」が21世紀を牽引する巨大な新産業に成長するものと考え,産業振興を進めている。その新しい産業を支えるキーマテリアルは,無機と有機材料の複合機能材料である「有機・無機ハイブリッド薄膜材料」であると考えている。本稿では,「有機・無機ハイブリッド薄膜材料」の成膜法として,有機触媒CVDの原理と材料,応用例などを紹介し,そのポテンシャルを明らかにする。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  薄膜一般 

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