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J-GLOBAL ID：201002261320298300   整理番号：10A1041332

強くドープした微結晶多孔性シリコンならびに多孔性シリコン自立膜のRaman散乱研究

Raman scattering studies of heavily doped microcrystalline porous silicon and porous silicon free-standing membranes

著者 (4件)： ABIDI Dorra (UPMC Univ. Paris 06, Paris, FRA) ,  ABIDI Dorra (Fac. Sci. Tunis, TUN) ,  JUSSERAND Bernard (UPMC Univ. Paris 06, Paris, FRA) ,  FAVE Jean-Louis (UPMC Univ. Paris 06, Paris, FRA)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 82  号： 7  ページ： 075210.1-075210.11  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *Raman散乱 ,  *ケイ素 ,  *多孔質シリコン ,  *ドーピング ,  量子閉込め ,  後方散乱 ,  ナノ結晶 ,  膜 ,  フォノン ,  埋込み【挿入】
準シソーラス用語： Fano因子 ,  共鳴励起 ,  *微結晶シリコン ,  自立膜

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B)

タイトルに関連する用語 (6件)： ドープ ,  微結晶 ,  多孔性シリコン ,  自立膜 ,  Raman散乱 ,  研究