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J-GLOBAL ID：201002262361161960   整理番号：10A0656983

メカノ化学合成で生成するアルキル保護粒子からのケイ素膜の濡れ特性

Wetting properties of silicon films from alkyl-passivated particles produced by mechanochemical synthesis

著者 (3件)： HALLMANN Steffen (Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Tulane Univ., 300 Lindy Boggs, New Orleans, LA 70118, USA) ,  FINK Mark J. (Dep. of Chemistry, Tulane Univ., 2015 Percival Stern Hall, 6283 St. Charles Ave., New Orleans, LA 70118, USA) ,  MITCHELL Brian S. (Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Tulane Univ., 300 Lindy Boggs, New Orleans, LA 70118, USA)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 348  号： 2  ページ： 634-641  発行年： 2010年08月15日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルキル保護結晶ケイ素粒子から成り静的接触角と前進接触角を持つ超疎水性系表面を生成するためのボールミル粉砕(HEBM)利用の容易で効率的方法を述べた。種々の表面上での官能化ケイ素材料沈着は個別粒子間の強い疎水性相互作用に起因し安定な膜を生成する。本過程は,マイクロ規模からナノ規模領域まで粒子サイズを制御する,また表面粗さも調節する能力を与える。粉砕時間増加に起因する膜の表面形態変化と表面粗さ減少のため,静的/動的接触角は最大動的前進接触角171°を持つ多項式関数に従った。この傾向は,一般的に用いられるWenzelとCassie-Bzxterモデルと相関がある。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,  *摩砕 ,  メカノ化学 ,  *ケイ素 ,  *結晶 ,  *膜 ,  疎水性 ,  接触角 ,  *アルキル基 ,  保護 ,  *官能化 ,  疎水性相互作用 ,  微粒子 ,  ナノ粒子 ,  粒度 ,  表面粗さ ,  時間依存性 ,  多項式 ,  *濡れ
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  *ボールミル処理 ,  マイクロ粒子 ,  超疎水性 ,  粒子サイズ

分類 (4件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  固体の製造・処理一般  (XD03021O) ,  薄膜一般  (BK14010X) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (3件)： メカノ化学合成 ,  ケイ素膜 ,  濡れ