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J-GLOBAL ID：201002262598121300   整理番号：10A1605902

異なる創製条件下のエレクトロマイグレーションによる金属ナノストラクチャー創製の数値シミュレーション

著者 (3件)： 笹川和彦 (弘前大) ,  阿保雄大 (弘前大 大学院) ,  鵜沼潤 (弘前大 大学院)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集  (日本機械学会年次大会)
巻： 2010  号： Vol.8  ページ： 175-176  発行年： 2010年09月04日 
JST資料番号： X0587B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,ナノテクノロジーの重要性から,ナノストラクチャー(以下NSと略す)が注目を集めている。最近,エレクトロマイグレーション(以下EMと略す)を利用した金属NS創製方法が提案されるとともに金属NS創製のための数値シミュレーション手法が開発されている。しかしながら,同数値シミュレーションにおいては断線に至るまで行われていない。そこで本研究では試験片の断線までにおけるNS創製の数値シミュレーション手法をいくつかの創製条件に適用し,実験結果と比較することにより本数値シミュレーションの有効性を示す。(著者抄録)

シソーラス用語： *エレクトロマイグレーション ,  ナノ構造 ,  試験片 ,  シミュレーション ,  切断 ,  電気故障 ,  拡散 ,  金属薄膜
準シソーラス用語： 金属ナノ構造 ,  原子拡散 ,  数値シミュレーション ,  断線

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 創製 ,  エレクトロマイグレーション ,  ストラクチャー ,  数値シミュレーション