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J-GLOBAL ID：201002262831654632   整理番号：10A0676584

264nmフェムト秒パルスによる狭帯域ファイバBraggグレーティングの書込み

Inscription of narrow-band fibre Bragg gratings with 264nm femtosecond pulses

著者 (2件)： KELLEHER Patrick (Dep. of Physics, Univ. Coll. Cork, Cork, Ireland) ,  NIKOGOSYAN David N. (Dep. of Physics, Univ. Coll. Cork, Cork, Ireland)
資料名： Optical Fiber Technology  (Optical Fiber Technology)
巻： 16  号： 4  ページ： 212-216  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： W1605A  ISSN： 1068-5200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高強度(30~60GW/cm²)264nm 220fsレーザパルスと走査マスク法を用いて,感光性Ge/B共添加ファイバの内部に狭帯域ファイバBraggグレーティング(FBG)を製作した。最近報告された同様の走査法と800nmパルスを用いた書込みに比べると,狭い0.2nmまでの線幅とはるかに高い回折強度が短い長さで得られることを実証した。得られた結果からは顕著なオフバンド損失がないことも確認された。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *回折格子 ,  *パルスレーザ照射 ,  *紫外線照射 ,  *パターン形成 ,  光走査 ,  マスク ,  光ファイバ ,  ドーピング ,  ゲルマニウム ,  ホウ素 ,  スペクトル線幅 ,  狭帯域 ,  光回折 ,  放射強度
準シソーラス用語： *ファイバBraggグレーティング

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒パルス ,  狭帯域 ,  ファイバBraggグレーティング ,  書込み