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J-GLOBAL ID:201002262945690701   整理番号:10A0780199

n型シリコン上に電着したZnO薄膜の構造および形態学的研究

Structural and morphological study of ZnO thin films electrodeposited on n-type silicon
著者 (9件):
資料名:
巻: 256  号: 24  ページ: 7442-7445  発行年: 2010年10月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究において,我々はn-Si (100)およびガラス基板上のZnO薄膜の電着について報告する。ZnO薄膜の形態における堆積時間の影響を調査した。ZnO薄膜はX線回折(XRD),エネルギー分散X線(EDS)および走査型電子顕微鏡(SEM)により特性評価した。その結果は10分でのメイン(002)から15分での完全な(101)へZnO特性の変化を示した。フォトルミネッセンス(PL)研究は,UV (~382nm)および青色(~432nm)ルミネッセンス両方が電着されたZnO膜に関しての主な発光であることを示した。さらに,15分成長した膜は10分成長した膜と比較して黄-緑色(~520nm)発光バンドの明らかな減少を示した。最終的に,透過スペクトルは可視光波長範囲において最大85%の高い透過率を示した。そのような結果はソーラーセル応用への非常に興味深いでしょう。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体のルミネセンス  ,  酸化物薄膜 
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