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J-GLOBAL ID：201002264004282426   整理番号：10A0330033

ArとAr/N₂雰囲気でのCrの高出力パルスマグネトロンスパッタリング中のイオン流の時間とエネルギー分解イオン質量分光研究

Time and energy resolved ion mass spectroscopy studies of the ion flux during high power pulsed magnetron sputtering of Cr in Ar and Ar/N₂ atmospheres

著者 (2件)： GRECZYNSKI G. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics (IFM), Linkoeping Univ., Linkoeping SE-581 83, SWE) ,  HULTMAN L. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics (IFM), Linkoeping Univ., Linkoeping SE-581 83, SWE)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 84  号： 9  ページ： 1159-1170  発行年： 2010年04月19日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 産業蒸着装置のCrターゲットの高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HIPIMS/HPPMS)中のイオン流の質量分光を行い,エネルギーと成分の解析を行った。Ar⁺,Ar²⁺,Cr⁺,Cr²⁺,とN⁺イオンの時間平均と時間分解モードでのイオンエネルギー分布関数を記録した。金属モードでは,パルスエネルギー(ターゲットのピーク電流と等価)に対する依存性が調べられた。Ar/N₂雰囲気での反応的スパターリングでは,一定圧力とHIPIMSパワーをとめて,イオン流成分のN₂-からーArへの流れの割合を変えて,その変化を調べた。2重に荷電したCrイオンの数は,パルスエネルギーが増大すると,直線的に増加する。反応的モードでの堆積中には高エネルギーN⁺イオンの強い流れが観察された。イオン流の成分の時間変化を詳細に解析し,膜の成長過程と関係付けた。最高エネルギーの放電層で,プラズマに入射するスパッター放出種の強い流れで,作業混合気体のイオン化は妨害される。そのため気体の希薄化,電子エネルギーの分布関数のクエンチが起こる。基板に入射するイオンの流れ特性(成分とエネルギー)は,パルスエネルギー(放電ピーク流)を変えるか,またはイオン流の観測された時間変化の知識で意識的に調節することができる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  出力 ,  *雰囲気 ,  *クロム ,  *金属薄膜 ,  *イオン電流 ,  *質量分析
準シソーラス用語： *イオン流

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (14件)： Ar ,  N2 ,  雰囲気 ,  Cr ,  高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  イオン流 ,  エネルギー ,  分解 ,  イオン ,  質量 ,  分光 ,  研究