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J-GLOBAL ID：201002264085218549   整理番号：10A0179687

非晶質ケイ素とシリカガラスの構造因子の長波長限界

The long-wavelength limit of the structure factor of amorphous silicon and vitreous silica

著者 (2件)： DE GRAFF Adam M. R. (Arizona State Univ., AZ, USA) ,  THORPE M. F. (Arizona State Univ., AZ, USA)
資料名： Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography  (Acta Crystallographica. Section A. Foundations of Crystallography)
巻： 66  号： 1  ページ： 22-31  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： A0315B  ISSN： 0108-7673  CODEN： ACACEQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *石英ガラス ,  *構造因子 ,  *非晶質半導体 ,  *ケイ素 ,  密度 ,  X線回折 ,  *解析モデル
準シソーラス用語： 密度ゆらぎ

分類 (2件)： 非晶質半導体の構造  (BK04030O) ,  その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非晶質ケイ素 ,  シリカガラス ,  構造因子 ,  長波 ,  限界