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J-GLOBAL ID：201002264141237926   整理番号：10A0026844

次代を拓く-工業材料キーワード28 真空紫外光による環境調和型光プロセス-光を創る・光で創る

著者 (5件)： 甲藤正人 (宮崎大) ,  亀山晃弘 (宮崎大) ,  加来昌典 (宮崎大) ,  窪寺昌一 (宮崎大) ,  横谷篤至 (宮崎大)
資料名： 工業材料  (Engineering Materials)
巻： 58  号： 1  ページ： 40-41  発行年： 2010年01月01日 
JST資料番号： F0172A  ISSN： 0452-2834  CODEN： KZAIA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有機・無機の固体・液体材料に強く吸収され,材料を光化学的作用により活性化・励起・分解することができる真空紫外(VUV)光とともに,それらを用いたVUV光プロセス技術を紹介する。誘電体バリア放電により希ガスを励起することで,低密度の出力であるが連続出力に近いVUV光が簡便に得られる。これをベースに誘電体バリヤ放電ランプが開発され,各種UVU光がプロセス光源として実用化されている。VUV光のみで絶縁体上に半導体層を直接析出できるプロセスを用いて,シリカ表面に多結晶状態のシリコンが析出される。VUV-CVDにおいては,エキシマランプからVUV光を気化させた原料に照射し,Arを雰囲気ガスとして,基板上にシリカ薄膜を堆積できる。物質に低強度のVUV光を照射した際には表面に付着・吸収した原子・分子を解離,脱離させることができ,脱離した原子種を分析できる。真空紫外光技術は環境に優しいものづくりへの展開が期待される。

シソーラス用語： *真空紫外線 ,  光化学 ,  無声放電 ,  希ガス ,  *放電励起 ,  放電ランプ ,  ポリシリコン ,  化学蒸着 ,  *光化学反応 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  誘電体バリア放電 ,  エキシマランプ ,  薄膜形成

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  真空技術  (BA02020L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 工業材料 ,  キーワード ,  真空 ,  紫外光 ,  環境調和型 ,  プロセス