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J-GLOBAL ID：201002264396922339   整理番号：10A1033289

薄膜におけるポリ(スチレン)-b-ポリ(4-ビニルピリジン)と1-ピレン酪酸の超分子集合体及びナノ加工のためのそれらの使用

Supramolecular Assembly of Poly(styrene)-b-poly(4-vinylpyridine) and 1-Pyrenebutyric Acid in Thin Film and Their Use for Nanofabrication

著者 (3件)： KUILA Biplab K. (Leibniz Inst. of Polymer Res. Dresden, Dresden, DEU) ,  GOWD E. Bhoje (Leibniz Inst. of Polymer Res. Dresden, Dresden, DEU) ,  STAMM Manfred (Leibniz Inst. of Polymer Res. Dresden, Dresden, DEU)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 43  号： 18  ページ： 7713-7721  発行年： 2010年09月28日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(スチレン)-b-ポリ(4-ビニルピリジン)(PS-b-P4VP)と1-ピレン酪酸(PBA)を用いて超分子集合体(SMA)薄膜をディップコーティング法とその後の1,4-ジオキサン中でのアニーリングにより調製し,特性化した。PBAのカルボキシル基とP4VPのピリジン環の間の水素結合を通して,PBAはP4VPブロックと選択的に濃縮する。SMAはP4VPブロック組成の増加により,ブロック共重合体の円筒モルフォロジーからラメラモルフォロジーへ変化した。溶媒によるアニーリング後のブロック共重合体は~26nm周期をもつ基板に垂直な円筒状マイクロドメインを示すのに対して,SMA複合体は~29nm周期をもつ垂直配向ラメラを示した。これらの薄膜をエタノール中に浸漬した時,PBAを除去して,ブロック共重合体薄膜をナノテンプレートへ変換することができる。このナノテンプレートは金属又は半導体のような機能性材料のナノワイヤアレイの作製に有効に使用することができる。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  ブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリビニルピリジン ,  *超分子構造 ,  浸漬塗装 ,  水素結合 ,  *モルフォロジー ,  ミクロドメイン ,  ラメラ ,  鋳型【鋳造】 ,  原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： ディップコーティング

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 1-ピレン酪酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜 ,  スチレン ,  4-ビニルピリジン ,  1-ピレン酪酸 ,  分子集合体 ,  ナノ加工