文献

J-GLOBAL ID：201002264925348716   整理番号：10A0966425

アリルベンゾアートにおいて離核性に及ぼす残留基効果

Permanent group effect on nucleofugality in aryl benzoates

著者 (4件)： R. CAMPODONICO Paola (Instituto de Ciencias, Facultad de Medicina, Clinica Alemana Universidad del Desarrollo, codigo postal 771-0162 ...) ,  ORMAZABAL-TOLEDO Rodrigo (Departamento de Quimica, Facultad de Ciencias, Universidad de Chile, Casilla 653, Santiago, CHL) ,  AIZMAN Arie (Departamento de Quimica Universidad Federico Santa Maria, Casilla 110V, Valparaiso, CHL) ,  CONTRERAS Renato (Departamento de Quimica, Facultad de Ciencias, Universidad de Chile, Casilla 653, Santiago, CHL)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 498  号： 1-3  ページ： 221-225  発行年： 2010年09月30日 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *カルボン酸エステル ,  逃散能 ,  原子核 ,  電子親和力 ,  *密度汎関数法 ,  *反応性 ,  基 ,  *置換基効果 ,  *求電子反応 ,  *分解反応
準シソーラス用語： *安息香酸エステル ,  フガシティー ,  求核性 ,  官能基

分類 (1件)： 反応に及ぼす構造の効果  (CF02110Z)

タイトルに関連する用語 (1件)： 残留