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J-GLOBAL ID：201002265228087455   整理番号：10A0421449

動的力顕微鏡により研究した自己集合チオール単分子層上へのナノスケール付着に対する湿度の効果

Effect of Humidity on Nanoscale Adhesion on Self-Assembled Thiol Monolayers Studied by Dynamic Force Spectroscopy

著者 (5件)： GOJZEWSKI Hubert (Poznan Univ. Technol., Poznan, POL) ,  GOJZEWSKI Hubert (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  KAPPL Michael (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  PTAK Arkadiusz (Poznan Univ. Technol., Poznan, POL) ,  BUTT Hans-Juergen (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 3  ページ： 1837-1847  発行年： 2010年02月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)の窒化けい素チップと自己集合チオール単分子層(SAM)間の付着力を,異なる分離速度と湿度で測定した。SAMは,HS(CH₂)_nCH₃(n=6,8,9,10,15)およびHS(CH₂)_nOH(n=6,9,11,16)により調製した。特別なAFM構成を用いることにより,分離速度は10⁷nN/sまで増大させることができた。nが8以上の二次元結晶性CH₃末端SAMとの相互作用においては,低分離速度と高分離速度における二つのエネルギー障壁に相当する領域が識別された。分離速度10⁴~10⁵N/s以下では,付着力は分離速度の対数に比例して増大した。付着はvan der Waals力に支配されているものと思われる。高分離速度においては付着力は分離速度の対数に比例したが,急激な増大が見られた。一方OH末端SAM上では,CH₃末端SAMと比較して付着力は低湿度においても六倍大きかった。これは部分的に水素結合により説明することができるが,完全に説明することはできなかった。相対湿度10%以上ではむしろ毛管力が増大し,相対湿度40%~80%で最大であった。OH末端SAM上では分離速度に対する付着力曲線は概ね線形に増大した。傾きは湿度に依存し,これは毛管力の絶対強度に関与した。

シソーラス用語： 力顕微鏡 ,  自己集合 ,  単分子層 ,  *湿度 ,  *原子間力顕微鏡 ,  *窒化ケイ素 ,  チップ ,  *付着力 ,  分離 ,  速度 ,  相互作用 ,  障壁 ,  van der Waals力 ,  水素結合 ,  毛管力 ,  *チオール
準シソーラス用語： エネルギー障壁

分類 (1件)： 固-固界面  (CB12060M)

物質索引 (9件)： 11-メルカプト-1-ウンデカノール ,  16-メルカプト-1-ヘキサデカノール ,  1-ウンデカンチオール ,  1-デカンチオール ,  1-ノナンチオール ,  1-ヘキサデカンチオール ,  1-ヘプタンチオール ,  6-メルカプト-1-ヘキサノール ,  9-メルカプト-1-ノナノール

タイトルに関連する用語 (7件)： 力顕微鏡 ,  研究 ,  自己集合 ,  チオール ,  単分子層 ,  ナノスケール ,  湿度